产品简介：

       二氧化硅片是指在硅片表面热生长一层均匀的介质薄膜，用作绝缘、或者掩模材料。

氧化工艺包括高温干氧氧化、高温湿氧氧化。公司采用进口先进氧化设备、工艺实现氧化层均匀、准确的生成。

产品特点：

● 氧化层厚度均匀  ● 平整度好   ● 翘曲度小 

● 尺寸公差小     ● 表面无光滑无瑕疵

产品规格说明

外形尺寸：	1",2",3",4",5",6",7 ~ 12"	可定制
型号	N型/ P型、本征（不掺杂）	客户要求
直径:	50 ~ 300mm
总厚度:	250 ~ 600 μm	可定制
厚度误差	±10μm
氧化层厚度	50nm ~ 2000nm（常规100nm，200nm，300nm，500nm，1000nm）	客户要求
平整度（TIR）	< 3 μm
翘曲度（BOW）	≤15μm
TTV:	≤15μm，30μm
粗糙度	< 0.5nm
电阻率:	0.001~ 20000 (Ω·cm)	客户要求
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